基本信息
竺立强 男 硕导 宁波材料技术与工程研究所
电子邮件：lqzhu@nimte.ac.cn
通信地址：宁波市镇海区庄市大道519号
邮政编码：315201
电子邮件：lqzhu@nimte.ac.cn
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研究领域
主要从事氧化物薄膜晶体管及其突触仿生电子学应用、太阳能电池等方面的研究
招生信息
拟在材料物理与化学专业招收研究生一名
招生专业
080501-材料物理与化学
招生方向
功能材料与纳米器件，新能源材料及相关技术
教育背景
2002-09--2007-07 中国科学院合肥物质科学研究院固体物理研究所 博士
1998-09--2002-07 浙江师范大学 学士
1998-09--2002-07 浙江师范大学 学士
工作经历
2010-11--至今 在中国科学院宁波材料技术与工程研究所担任副研究员
2008年－2010年，获得日本学术振兴会(JSPS)资助，在东京大学工学院担任JSPS研究员
2007年－2008年，应邀在法国原子能委员会萨克莱辐射材料研究所(CEA-Saclay)从事博士后研究
出版信息
发表论文
（1） Artificial Synapse Network on Inorganic Proton Conductor for Neuromorphic Systems，Nature Communications，2014，第1作者
（2） Inorganic proton conducting electrolyte coupled oxide-based dendritic transistors for synaptic electronics，Nanoscale，2014，第2作者
（3） Laterally Coupled Synaptic Transistors Gated by Proton Conducting Sodium Alginate Films，IEEE Electron Device Letters，2014，第2作者
（4） Atomic layer deposited Al2O3 films for anti-reflectance and surface passivation applications，Applied Surface Science，2014，第1作者
（5） Proton conducting sodium alginate electrolyte laterally coupled low-voltage oxide-based transistors，Applied Physics Letters，2014，通讯作者
（6） Surface Passivation Performance of Atomic-Layer-Deposited Al2O3 on P-type Silicon Substrates，Journal of Materials Sciences and Technology ，2014，通讯作者
（7） Memory and Learning Behaviors Mimicked in Nanogranular SiO2-based Proton Conductor Gated Oxide-Based Synaptic Transistors，Nanoscale，2013，第2作者
（8） Flexible Dual-Gate Oxide TFTs Gated by Chitosan Film on Paper Substrates，IEEE Electron Device Letters.，2013，第2作者
（9） Laser Directly Written Junctionless In-plane-Gate Neuron Thin Film Transistors with AND Logic Function，Applied Physics Letters，2013，第1作者
（10） Flexible Proton/Electron Coupled Neuron Transistors with Tunable Logic Functions Self-Assembled on Paper Substrates，Applied Physics Letters，2013，通讯作者
（11） Self-Assembled Dual In-Plane Gates Thin Film Transistors Gated by Nanogranular SiO2 Proton Conductors for Logic Applications，Nanoscale，2013，第1作者
（12） Optimization of microstructure and optical properties of VO2 thin film prepared by reactive sputtering，Journal of Applied Physics，2013，第2作者
（13） Dual Function of Anti-reflectance and Surface Passivation of Atomic Layer Deposited Al2O3 Films，IEEE Electron Device Letters，2012，第1作者
（14） Low-Voltage Junctionless Oxide-based Thin-Film Transistors Self-Assembled by Gradient Shadow Mask，IEEE Electron Device Letters，2012，第4作者
（15） In-plane-gate oxide-based thin-film transistors self-aligned on stacked self-assembled monolayer/SiO2 electrolyte dielectrics，IEEE Electron Device Letters，2012，第3作者
（16） Transparent In-plane-Gate Junctionless Oxide-Based TFTs Directly Written by Laser Scribing，IEEE Electron Device Letters，2012，第1作者
（17） Interfacial Dipole at High-k/SiO2 Interface: X-ray Photoelectron Spectroscopy Characteristic，Japanese Journal of Applied Physics，2011，通讯作者
（18） Integrations and challenges of novel high-k gate stacks in advanced CMOS technology，Progress in Materials Science，2011，通讯作者
（19） Dual in-plane-gate oxide-based thin-film transistors with tunable threshold voltage，Applied Physics Letters，2011，第3作者
（20） Improving the efficiency of crystalline silicon solar cells by an intersected selective laser doping，Solar Energy Materials and Solar Cells，2011，第1作者
（21） Observation of Dipole Layer Formed at High-k Dielectrics/SiO2 Interface with X-ray Photoelectron Spectroscopy，Applied Physics Express，2010，通讯作者
（22） Formation of Dipole Layers at Oxide Interfaces in High-k Gate Stacks，ECS Transactions，2010，第2作者
（23） X-ray Photoelectron Spectroscopy and Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy investigation of Al-related dipole at the HfO2/Si interface，Journal of Applied Physics，2009，通讯作者
（24） Interfacial and optical properties of YOxNy gate dielectrics at different deposition temperature，Journal of Physics D: Applied Physics，2009，第4作者
（25） Structural, Optical properties and band gap alignments of ZrOxNy thin films on Si (100) by radio frequency sputtering at different deposition temperatures，Applied Surface Science，2008，通讯作者
（26） X-ray Photoelectron Spectroscopy Study of ZrO2/TiO2/Si Stack，Applied Physics Letters，2007，通讯作者
（27） Characterization of ZnO:N films prepared by annealing sputtered zinc oxynitride films at different temperatures，Journal of Applied Physics，2007，第3作者
（28） Effect of oxygen partial pressure on the structural and optical properties of ZnO film deposited by reactive sputtering，Applied Surface Science，2007，第3作者
（29） Characteristics of HfOxNy thin films by rf reactive sputtering at different deposition temperatures，Journal of Applied Physics，2007，第4作者
（30） A facile approach to the formation of the alumina nanostructures from anodic alumina membranes，Materials letters，2006，第3作者
（31） Spectroscopic ellipsometry characterization of ZrO2 thin films by nitrogen assisted reactive magnetron sputtering，Materials Science in Semiconductor Processing，2006，通讯作者
（32） Characterization of HfOxNy gate dielectrics using a hafnium oxide as target，Applied Surface Science，2006，第4作者
（33） Optical and electrical properties of plasma oxidation derived HfO2 gate dielectric films，Applied Surface Science，2006，第2作者
（34） Effect of annealing on optical properties and band alignments of ZrO2/Si(100) by nitrogen assisted reactive sputtering，Journal of Physics D: Applied Physics，2006，通讯作者
（35） Chemical compositions and optical properties of HfOxNy thin films at different substrate temperatures ，Materials Science in Semiconductor Processing，2006，第4作者
（36） Effect of post deposition annealing on the optical properties of HfOxNy films，Applied Physics Letters，2006，第5作者
（37） Thermal stability and energy-band alignment of nitrogen-incorporated ZrO2 films on Si(100)，Applied Physics Letters，2006，通讯作者
（38） Spectroscopic ellipsometry characterization of nitrogen-incorporated HfO2 gate dielectrics grown by reactive sputtering，Applied Physics Letter，2005，第5作者
（39） Microstructure and interfacial properties of HfO2–Al2O3 nanolaminate films，Applied Surface Science，2005，第3作者
（40） Structural, interfacial and optical characterization of ultrathin Zirconia film grown by in-situ thermal oxidation of sputtered metallic Zr films，Nanotechnology，2005，第4作者
（41） Microstructure and optical properties of ultra thin Zirconia films prepared by nitrogen assisted reactive magnetron sputtering，Nanotechnology，2005，通讯作者
（42） Interfacial and optical properties of ZrO2/Si by reactive magnetron sputtering，Materials Letters，2005，通讯作者
（43） Effect of postdeposition annealing on the thermal stability and structural characteristics of sputtered HfO2 films on Si (100)，Surface Science，2004，第3作者
（44） The structural and interfacial properties of HfO2/Si by the plasma oxidation of sputtered metallic Hf thin films，Journal of Crystal Growth，2004，第4作者
（45） The structure and thermal stability of TiO2 grown by the plasma oxidation of sputtered metallic Ti thin films，Chemical Physics Letters，2004，第3作者
（2） Inorganic proton conducting electrolyte coupled oxide-based dendritic transistors for synaptic electronics，Nanoscale，2014，第2作者
（3） Laterally Coupled Synaptic Transistors Gated by Proton Conducting Sodium Alginate Films，IEEE Electron Device Letters，2014，第2作者
（4） Atomic layer deposited Al2O3 films for anti-reflectance and surface passivation applications，Applied Surface Science，2014，第1作者
（5） Proton conducting sodium alginate electrolyte laterally coupled low-voltage oxide-based transistors，Applied Physics Letters，2014，通讯作者
（6） Surface Passivation Performance of Atomic-Layer-Deposited Al2O3 on P-type Silicon Substrates，Journal of Materials Sciences and Technology ，2014，通讯作者
（7） Memory and Learning Behaviors Mimicked in Nanogranular SiO2-based Proton Conductor Gated Oxide-Based Synaptic Transistors，Nanoscale，2013，第2作者
（8） Flexible Dual-Gate Oxide TFTs Gated by Chitosan Film on Paper Substrates，IEEE Electron Device Letters.，2013，第2作者
（9） Laser Directly Written Junctionless In-plane-Gate Neuron Thin Film Transistors with AND Logic Function，Applied Physics Letters，2013，第1作者
（10） Flexible Proton/Electron Coupled Neuron Transistors with Tunable Logic Functions Self-Assembled on Paper Substrates，Applied Physics Letters，2013，通讯作者
（11） Self-Assembled Dual In-Plane Gates Thin Film Transistors Gated by Nanogranular SiO2 Proton Conductors for Logic Applications，Nanoscale，2013，第1作者
（12） Optimization of microstructure and optical properties of VO2 thin film prepared by reactive sputtering，Journal of Applied Physics，2013，第2作者
（13） Dual Function of Anti-reflectance and Surface Passivation of Atomic Layer Deposited Al2O3 Films，IEEE Electron Device Letters，2012，第1作者
（14） Low-Voltage Junctionless Oxide-based Thin-Film Transistors Self-Assembled by Gradient Shadow Mask，IEEE Electron Device Letters，2012，第4作者
（15） In-plane-gate oxide-based thin-film transistors self-aligned on stacked self-assembled monolayer/SiO2 electrolyte dielectrics，IEEE Electron Device Letters，2012，第3作者
（16） Transparent In-plane-Gate Junctionless Oxide-Based TFTs Directly Written by Laser Scribing，IEEE Electron Device Letters，2012，第1作者
（17） Interfacial Dipole at High-k/SiO2 Interface: X-ray Photoelectron Spectroscopy Characteristic，Japanese Journal of Applied Physics，2011，通讯作者
（18） Integrations and challenges of novel high-k gate stacks in advanced CMOS technology，Progress in Materials Science，2011，通讯作者
（19） Dual in-plane-gate oxide-based thin-film transistors with tunable threshold voltage，Applied Physics Letters，2011，第3作者
（20） Improving the efficiency of crystalline silicon solar cells by an intersected selective laser doping，Solar Energy Materials and Solar Cells，2011，第1作者
（21） Observation of Dipole Layer Formed at High-k Dielectrics/SiO2 Interface with X-ray Photoelectron Spectroscopy，Applied Physics Express，2010，通讯作者
（22） Formation of Dipole Layers at Oxide Interfaces in High-k Gate Stacks，ECS Transactions，2010，第2作者
（23） X-ray Photoelectron Spectroscopy and Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy investigation of Al-related dipole at the HfO2/Si interface，Journal of Applied Physics，2009，通讯作者
（24） Interfacial and optical properties of YOxNy gate dielectrics at different deposition temperature，Journal of Physics D: Applied Physics，2009，第4作者
（25） Structural, Optical properties and band gap alignments of ZrOxNy thin films on Si (100) by radio frequency sputtering at different deposition temperatures，Applied Surface Science，2008，通讯作者
（26） X-ray Photoelectron Spectroscopy Study of ZrO2/TiO2/Si Stack，Applied Physics Letters，2007，通讯作者
（27） Characterization of ZnO:N films prepared by annealing sputtered zinc oxynitride films at different temperatures，Journal of Applied Physics，2007，第3作者
（28） Effect of oxygen partial pressure on the structural and optical properties of ZnO film deposited by reactive sputtering，Applied Surface Science，2007，第3作者
（29） Characteristics of HfOxNy thin films by rf reactive sputtering at different deposition temperatures，Journal of Applied Physics，2007，第4作者
（30） A facile approach to the formation of the alumina nanostructures from anodic alumina membranes，Materials letters，2006，第3作者
（31） Spectroscopic ellipsometry characterization of ZrO2 thin films by nitrogen assisted reactive magnetron sputtering，Materials Science in Semiconductor Processing，2006，通讯作者
（32） Characterization of HfOxNy gate dielectrics using a hafnium oxide as target，Applied Surface Science，2006，第4作者
（33） Optical and electrical properties of plasma oxidation derived HfO2 gate dielectric films，Applied Surface Science，2006，第2作者
（34） Effect of annealing on optical properties and band alignments of ZrO2/Si(100) by nitrogen assisted reactive sputtering，Journal of Physics D: Applied Physics，2006，通讯作者
（35） Chemical compositions and optical properties of HfOxNy thin films at different substrate temperatures ，Materials Science in Semiconductor Processing，2006，第4作者
（36） Effect of post deposition annealing on the optical properties of HfOxNy films，Applied Physics Letters，2006，第5作者
（37） Thermal stability and energy-band alignment of nitrogen-incorporated ZrO2 films on Si(100)，Applied Physics Letters，2006，通讯作者
（38） Spectroscopic ellipsometry characterization of nitrogen-incorporated HfO2 gate dielectrics grown by reactive sputtering，Applied Physics Letter，2005，第5作者
（39） Microstructure and interfacial properties of HfO2–Al2O3 nanolaminate films，Applied Surface Science，2005，第3作者
（40） Structural, interfacial and optical characterization of ultrathin Zirconia film grown by in-situ thermal oxidation of sputtered metallic Zr films，Nanotechnology，2005，第4作者
（41） Microstructure and optical properties of ultra thin Zirconia films prepared by nitrogen assisted reactive magnetron sputtering，Nanotechnology，2005，通讯作者
（42） Interfacial and optical properties of ZrO2/Si by reactive magnetron sputtering，Materials Letters，2005，通讯作者
（43） Effect of postdeposition annealing on the thermal stability and structural characteristics of sputtered HfO2 films on Si (100)，Surface Science，2004，第3作者
（44） The structural and interfacial properties of HfO2/Si by the plasma oxidation of sputtered metallic Hf thin films，Journal of Crystal Growth，2004，第4作者
（45） The structure and thermal stability of TiO2 grown by the plasma oxidation of sputtered metallic Ti thin films，Chemical Physics Letters，2004，第3作者
发表著作
（1） Chapter 10 “Interfacial dipole effects in High-k Gate Stacks”， in book “High-k Gate Dielectrics for CMOS Technology”，WILEY-VCH， 2012年出版，1900-01，第1作者