080300-光学工程

光学工程（光学设计与光学工艺）

1999-04--2002-04   中科院上海光学精密机械研究所   博士
1996-09--1999-03   长春光学精密机械学院   硕士
1990-09--1994-06   长春光学精密机械学院   学士

   

2011-11~现在, 中科院上海光学精密机械研究所, 副研究员
2010-06~2011-10,芯硕半导体有限公司研发中心, 项目兼部门经理
2004-04~2010-05,上海微电子装备有限公司, 高级工程师
2002-05~2004-03,中科院上海微系统研究所, 助理研究员
1994-07~1996-08,东北机器制造总厂, 助理工程师

   

（1） 上海市浦东新区政府浦东新区专利工作优秀个人奖, , 省级, 2010
（2） 上海微电子装备公司（国家光刻设备研发中心）专利成就奖, , 研究所（学校）, 2010

（ 1 ） 测量光学系统参数的测量装置及其测量方法, 发明, 2010, 第 2 作者, 专利号: CN200810033379.0
（ 2 ） 傅里叶变换物镜, 发明, 2013, 第 1 作者, 专利号: CN201310259300.7
（ 3 ） 光刻机照明系统偏振测量用光学系统, 发明, 2013, 第 1 作者, 专利号: CN201310301241.5
（ 4 ） 共轭距可变的光刻投影物镜、光刻方法, 发明, 2014, 第 1 作者, 专利号: CN201310422537.2
（ 5 ） 产生一束线偏振光的沃拉斯顿棱镜, 发明, 2014, 第 1 作者, 专利号: CN201310485690.X
（ 6 ） 紧凑型光刻投影物镜, 发明, 2014, 第 1 作者, 专利号: CN201310565988.1
（ 7 ） 光刻机光瞳整形单元结构及其衍射光学元件设计方法, 发明, 2014, 第 2 作者, 专利号: CN201310576235.0
（ 8 ） 用于193nm波长的由两种材料构成的沃拉斯顿棱镜, 发明, 2014, 第 1 作者, 专利号: CN201310675817.4
（ 9 ） 光刻机偏振照明系统光瞳偏振态测量装置及其测试方法, 发明, 2014, 第 1 作者, 专利号: CN201410040999.2
（ 10 ） 光扩散器散射特性测量装置及其方法, 发明, 2012, 第 1 作者, 专利号: CN200910199203.7
（ 11 ） 多重成像光刻装置以及方法, 发明, 2011, 第 1 作者, 专利号: CN200910047580.9
（ 12 ） 一种全折射式投影光学系统, 发明, 2010, 第 1 作者, 专利号: CN200810037684.7
（ 13 ） 一种烘烤光刻胶的方法及使用该方法的装置, 发明, 2013, 第 3 作者, 专利号: CN200910201295.8
（ 14 ） 一种全折射浸液式投影光学系统、装置及其应用, 发明, 2009, 第 1 作者, 专利号: CN200710043869.4
（ 15 ） 一种投影光学系统及投影曝光装置, 发明, 2009, 第 1 作者, 专利号: CN200710170750.3
（ 16 ） 一种全折射浸液式投影光学系统、装置及其应用, 发明, 2009, 第 1 作者, 专利号: CN200710043872.6
（ 17 ） 批量硅片曝光的方法, 发明, 2009, 第 1 作者, 专利号: CN200710036720.3
（ 18 ） 一种全折射投影光学系统, 发明, 2009, 第 1 作者, 专利号: CN200710040304.0
（ 19 ） 全折射投影光学系统, 发明, 2009, 第 1 作者, 专利号: CN200710173558.X
（ 20 ） 一种全折射非球面投影光学系统, 发明, 2009, 第 1 作者, 专利号: CN200710173569.8
（ 21 ） 一种折反射投影光学系统, 发明, 2010, 第 1 作者, 专利号: CN200710173571.5
（ 22 ） 全折射式投影光学系统, 发明, 2010, 第 1 作者, 专利号: CN200810200908.1
（ 23 ） 一种对称式双远心投影光学系统, 发明, 2009, 第 1 作者, 专利号: CN200710038508.0
（ 24 ） 一种投影光学系统, 发明, 2009, 第 2 作者, 专利号: CN200610028605.7
（ 25 ） 筒长无限的显微物镜光学系统, 发明, 2014, 第 1 作者, 专利号: CN201410067677.7

   

（1） 共轭距可变的光刻投影物镜光学设计, Optical Design of Lithography Projective Lens with Variable Total Track, 中国激光, 2014, 第 1 作者
（2） 用于ArF光刻机偏振照明系统的沃拉斯顿棱镜的设计, Design of Wollaston Prism Used for Polarization Illumination System in ArF Lithography Tool, 中国激光, 2014, 第 1 作者

   

（ 1 ） “高端光刻机偏振照明关键技术联合研究”之课题4“偏振照明原理实验装置及其性能评估”, 主持, 国家级, 2011-01--2013-12
（ 2 ） “2009ZX02205-001”之“照明光瞳偏振参数检测装置研发”, 主持, 国家级, 2009-07--2015-12
（ 3 ） 投影物镜偏振特性检测技术研究, 主持, 市地级, 2012-03--2013-09
（ 4 ） EUVL投影物镜波像差检测装置研发, 参与, 国家级, 2012-01--2014-02