基本信息
蔡燕民  男  硕导  中国科学院上海光学精密机械研究所
电子邮件: caiyanmin@163.com
通信地址: 上海市嘉定区清河路390号
邮政编码: 201800
部门/实验室:信光

研究领域

   

招生信息

   
招生专业
080300-光学工程
招生方向
光学工程(光学设计与光学工艺)

教育背景

1999-04--2002-04   中科院上海光学精密机械研究所   博士
1996-09--1999-03   长春光学精密机械学院   硕士
1990-09--1994-06   长春光学精密机械学院   学士
学历
   
学位
   

工作经历

   
工作简历
2011-11~现在, 中科院上海光学精密机械研究所, 副研究员
2010-06~2011-10,芯硕半导体有限公司研发中心, 项目兼部门经理
2004-04~2010-05,上海微电子装备有限公司, 高级工程师
2002-05~2004-03,中科院上海微系统研究所, 助理研究员
1994-07~1996-08,东北机器制造总厂, 助理工程师
社会兼职
   

教授课程

   

专利与奖励

   
奖励信息
(1) 上海市浦东新区政府浦东新区专利工作优秀个人奖, , 省级, 2010
(2) 上海微电子装备公司(国家光刻设备研发中心)专利成就奖, , 研究所(学校), 2010
专利成果
( 1 ) 测量光学系统参数的测量装置及其测量方法, 发明, 2010, 第 2 作者, 专利号: CN200810033379.0
( 2 ) 傅里叶变换物镜, 发明, 2013, 第 1 作者, 专利号: CN201310259300.7
( 3 ) 光刻机照明系统偏振测量用光学系统, 发明, 2013, 第 1 作者, 专利号: CN201310301241.5
( 4 ) 共轭距可变的光刻投影物镜、光刻方法, 发明, 2014, 第 1 作者, 专利号: CN201310422537.2
( 5 ) 产生一束线偏振光的沃拉斯顿棱镜, 发明, 2014, 第 1 作者, 专利号: CN201310485690.X
( 6 ) 紧凑型光刻投影物镜, 发明, 2014, 第 1 作者, 专利号: CN201310565988.1
( 7 ) 光刻机光瞳整形单元结构及其衍射光学元件设计方法, 发明, 2014, 第 2 作者, 专利号: CN201310576235.0
( 8 ) 用于193nm波长的由两种材料构成的沃拉斯顿棱镜, 发明, 2014, 第 1 作者, 专利号: CN201310675817.4
( 9 ) 光刻机偏振照明系统光瞳偏振态测量装置及其测试方法, 发明, 2014, 第 1 作者, 专利号: CN201410040999.2
( 10 ) 光扩散器散射特性测量装置及其方法, 发明, 2012, 第 1 作者, 专利号: CN200910199203.7
( 11 ) 多重成像光刻装置以及方法, 发明, 2011, 第 1 作者, 专利号: CN200910047580.9
( 12 ) 一种全折射式投影光学系统, 发明, 2010, 第 1 作者, 专利号: CN200810037684.7
( 13 ) 一种烘烤光刻胶的方法及使用该方法的装置, 发明, 2013, 第 3 作者, 专利号: CN200910201295.8
( 14 ) 一种全折射浸液式投影光学系统、装置及其应用, 发明, 2009, 第 1 作者, 专利号: CN200710043869.4
( 15 ) 一种投影光学系统及投影曝光装置, 发明, 2009, 第 1 作者, 专利号: CN200710170750.3
( 16 ) 一种全折射浸液式投影光学系统、装置及其应用, 发明, 2009, 第 1 作者, 专利号: CN200710043872.6
( 17 ) 批量硅片曝光的方法, 发明, 2009, 第 1 作者, 专利号: CN200710036720.3
( 18 ) 一种全折射投影光学系统, 发明, 2009, 第 1 作者, 专利号: CN200710040304.0
( 19 ) 全折射投影光学系统, 发明, 2009, 第 1 作者, 专利号: CN200710173558.X
( 20 ) 一种全折射非球面投影光学系统, 发明, 2009, 第 1 作者, 专利号: CN200710173569.8
( 21 ) 一种折反射投影光学系统, 发明, 2010, 第 1 作者, 专利号: CN200710173571.5
( 22 ) 全折射式投影光学系统, 发明, 2010, 第 1 作者, 专利号: CN200810200908.1
( 23 ) 一种对称式双远心投影光学系统, 发明, 2009, 第 1 作者, 专利号: CN200710038508.0
( 24 ) 一种投影光学系统, 发明, 2009, 第 2 作者, 专利号: CN200610028605.7
( 25 ) 筒长无限的显微物镜光学系统, 发明, 2014, 第 1 作者, 专利号: CN201410067677.7

出版信息

   
发表论文
(1) 共轭距可变的光刻投影物镜光学设计, Optical Design of Lithography Projective Lens with Variable Total Track, 中国激光, 2014, 第 1 作者
(2) 用于ArF光刻机偏振照明系统的沃拉斯顿棱镜的设计, Design of Wollaston Prism Used for Polarization Illumination System in ArF Lithography Tool, 中国激光, 2014, 第 1 作者
发表著作
   

科研活动

   
科研项目
( 1 ) “高端光刻机偏振照明关键技术联合研究”之课题4“偏振照明原理实验装置及其性能评估”, 主持, 国家级, 2011-01--2013-12
( 2 ) “2009ZX02205-001”之“照明光瞳偏振参数检测装置研发”, 主持, 国家级, 2009-07--2015-12
( 3 ) 投影物镜偏振特性检测技术研究, 主持, 市地级, 2012-03--2013-09
( 4 ) EUVL投影物镜波像差检测装置研发, 参与, 国家级, 2012-01--2014-02
参与会议
   

合作情况

   
项目协作单位
   

指导学生