基本信息
刘术林 男 高能物理研究所
电子邮件:liusl@ihep.ac.cn
通信地址:北京市石景山区玉泉路19号乙
邮政编码:100049

招生信息

   
招生专业
070202-粒子物理与原子核物理
080401-精密仪器及机械
070207-光学
招生方向
微光探测与成像,光子探测器
真空光电器件
光学工程

教育背景

1987-09--1990-07 华东理工大学 硕士研究生
1983-09--1987-07 河南大学 本科 理学学士

工作经历

   
工作简历
2011-12--今 中科院高能物理研究所 正研究员
2010-03--2011-12 北方夜视科技集团微光器件中心 学科带头人,研究员级告你高级工程师
2000-06--2010-03 北方夜视技术股份有限公司 研究员级高级工程师
1994-09--2000-06 中国兵器工业第205研究所第2研究室 高级工程师
1990-07--1994-09 中国兵器工业第205研究所第3研究室 工程师

专利与奖励

   
奖励信息
(1) 关于带有实体边微通道板制作方法的工艺技术,三等奖,部委级,2010
专利成果
[1] 刘术林. 用于中子探测及成像的原子层沉积型微通道板及制作方法. 202210521586.0, 2022-05-13.
[2] 刘术林. 精确测量低二次电子发射系数材料最薄贡献厚度的方法. 202210473415.5, 2022-04-29.
[3] 刘术林, 孙志嘉, 闫保军, 周健荣, 衡月昆, 张斌婷, 韦雯露, 闫文静, 彭华兴. 一种高γ抑制比的中子敏感的微通道板及其制作方法. CN: CN114203515A, 2022-03-18.
[4] 王玉漫, 刘术林, 闫保军, 张斌婷, 谷建雨, 姚文静. 一种AZO材料纳米电阻薄膜及其制备方法. CN: CN112663023A, 2021-04-16.
[5] 王玉漫, 刘术林, 闫保军, 温凯乐, 张斌婷, 谷建雨, 姚文静. 一种高二次电子发射系数薄膜及其制备方法. CN: CN112593206A, 2021-04-02.
[6] 闫保军, 王玉漫, 刘术林, 温凯乐, 张斌婷, 谷建雨, 姚文静. 一种高二次电子发射系数的双层薄膜及其制备方法. CN: CN112575311A, 2021-03-30.
[7] 刘术林, 闫保军, 杨玉真, 温凯乐. 一种微通道板组件. CN: CN108878251A, 2018-11-23.
[8] 衡月昆, 李楠, 蔡志岩, 刘术林. 非晶体透明材料内应力的测量方法及测量装置. CN: CN108827511A, 2018-11-16.
[9] 孙建宁, 顾莹, 司曙光, 金睦淳, 李冬, 刘术林, 胡松, 钱森, 张正君, 张昊达, 徐海洋, 李婧雯. 制备光电倍增管阴极的自动控制设备、方法及所制备的光电阴极. CN: CN107731639A, 2018-02-23.
[10] 司曙光, 赵敏, 顾莹, 王兴超, 刘术林, 谢飞, 钱森, 金真, 徐伟, 韩晓明, 宋淳. 基于阴极转移设备的光电倍增管的铟封方法及所制备的光电倍增管. CN: CN107706072A, 2018-02-16.
[11] 金睦淳, 司曙光, 张勤东, 侯巍, 谢飞, 钱森, 刘术林, 曹宜起, 丛晓庆, 邱祥彪. 高量子效率的微通道板型光电倍增管、双碱光电阴极及制备方法. CN: CN107622930A, 2018-01-23.
[12] 黄国瑞, 钱森, 司曙光, 孙建宁, 刘术林, 李珅, 金真, 李冬, 任玲, 邵爱飞, 胡松, 曹宜起. 大面积微通道板型光电倍增管测试装置. CN: CN107560830A, 2018-01-09.
[13] 刘术林, 刘虎林, 司曙光, 钱森, 田进寿, 孙建宁, 赵天池, 赛小锋, 王贻芳, 王志宏, 韦永林, 苏德坦, 衡月昆, 曹俊. 一种静电聚焦微通道板光电倍增管. CN: CN103915311A, 2014-07-09.
[14] 刘术林, 钱森, 衡月昆, 付在伟. 一种X射线相机及其制造方法. CN: CN102547150A, 2012-07-04.
[15] 邓广绪, 刘术林, 王世平, 郭永清. 一种用环氧树脂灌封的标准吸阻棒及其制作方法. CN: CN101470054A, 2009-07-01.
[16] 刘术林, 邓广绪, 曾国富, 严诚. 带有实体边的微通道板制作方法. CN: CN1758405A, 2006-04-12.

出版信息

   
发表论文
[1] 刘术林. 适用于电子倍增器的电荷灵敏放大器的设计. 红外技术[J]. 2022, 44(8): 792-797, [2] 刘术林. 电子倍增器脉冲信图形化离线分析软件. ,,43(0): 1-10. DOI:. 应用光学[J]. 2022, 43: 1-10, [3] 刘术林. 球形收集极结构的二次电子产额测量装置及测量方法. 《空间电子技术》[J]. 2022, 64-71, [4] 刘术林. 新型薄膜材料在电子倍增器中的应用研究. 《空间电子技术》[J]. 2022, 85-92, [5] Wang, Yuman, Yan, Baojun, Wen, Kaile, Liu, Shulin, Qi, Ming, Zhang, Binting, Gu, Jianyu, Yao, Wenjing. The Design of the Emission Layer for Electron Multipliers. NANOSCALE RESEARCH LETTERS[J]. 2021, 16(1): http://dx.doi.org/10.1186/s11671-021-03606-y.
[6] Yuman Wang, Shulin Liu, Baojun Yan, Ming Qi, Kaile Wen, Binting Zhang, Jianyu Gu, Wenjing Yao. Correction to: The Design of the AZO Conductive Layer on Microchannel Plate. Nanoscale Research Letters[J]. 2021, 16(1): 1-2, https://www.ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC8190213/.
[7] 刘术林. 两种玻璃微通道阵列的制作技术及其比较. 应用光学. 2021, [8] Wen Kaile, Liu Shulin, Yan Baojun, Wang Yuman, Zhang Binting, Cai Zhiyan. New neutralization method for measuring the secondary electron yield of insulative material. 辐射探测技术与方法(英文)[J]. 2020, 319-326, http://lib.cqvip.com/Qikan/Article/Detail?id=00004H0G4H9XFFCD5D88CH50MPD89JP06PDO0.
[9] Tiezhu Bo, Chen Wang, Chang Liu, Xiaoxuan Shi, Yu Shi, Sanzhao Wang, Hui Liu, Jiawen Zhang, Shulin Liu, Baojun Yan. Research Progress and Development of Resistive Glass for Resistive Plate Chambers. AOPC 2019 :. 2020, 113340R-1-113340R-7, http://dx.doi.org/10.1117/12.2543852.
[10] Shulin Liu. Study on the glassy and conductive properties of SiO2-B2O3-P2O5-Al2O3-MxOy system. SPIE11334. 2019, [11] 顾运厅, 林焱剑, 闫保军, 刘术林, 杨玉真, 余洋, 温凯乐, 王玉漫. 产生大面积均匀面电子源的电子枪设计. 真空科学与技术学报[J]. 2019, 39(12): 1109-1113, http://lib.cqvip.com/Qikan/Article/Detail?id=7101006090.
[12] 赵天池, 王佩良, 衡月昆, 闫保军, 刘术林, 温凯乐, 杨玉珍. Secondary electron yield of nano-thick aluminum oxide and its application on MCP detector. SPRINGER PROCEEDINGS IN PHYSICS[J]. 2018, 213: 339-343, http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/286600.
[13] Yan, Baojun, Liu, Shulin, Heng, Yuekun, Yang, Yuzhen, Yu, Yang, Wen, Kaile. Band Offset Measurements in Atomic-Layer-Deposited Al2O3/Zn0.8Al0.2O Heterojunction Studied by X-ray Photoelectron Spectroscopy. NANOSCALE RESEARCH LETTERS[J]. 2017, 12(1): http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2175671.
[14] 刘术林, 杨露萍, 董煜晖, 黄明举, 苏德坦, 闫保军, 温凯乐, 祁辉荣, 杨玉真, 余洋. 基于一代像增强器的高分辨率X射线相机. 应用光学[J]. 2017, 38(5): 810-814, http://lib.cqvip.com/Qikan/Article/Detail?id=673134131.
[15] 刘术林. 采用Al2O3薄膜后微通道板性能的改进. NIMA. 2017, [16] 杨露萍, 刘术林, 黄明举, 赵天池, 闫保军, 温凯乐, 杨玉真, 司曙光, 黄国瑞, 衡月昆, 钱森. 提高微通道板对低能电子探测效率的技术途径. 红外技术[J]. 2016, 38(8): 714-718, http://lib.cqvip.com/Qikan/Article/Detail?id=669789772.
[17] 郭迪舟, 马永胜, 刘佰奇, 刘术林, 宋洪. 微通道板(MCP)的真空出气性能研究. 真空[J]. 2016, P4-6, http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/260573.
[18] Yang, Yuzhen, Liu, Shulin, Zhao, Tianchi, Yan, Baojun, Wang, Peiliang, Yu, Yang, Lei, Xiangcui, Yang, Luping, Wen, Kaile, Qi, Ming, Heng, Yuekun. Single electron counting using a dual MCP assembly. NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION A-ACCELERATORS SPECTROMETERS DETECTORS AND ASSOCIATED EQUIPMENT[J]. 2016, 830: 438-443, http://dx.doi.org/10.1016/j.nima.2016.06.035.
[19] 刘术林. 用原子层沉积技术在微通道板上制作均匀薄膜. Advanced Materials Research. 2015, [20] Shulin Liu. Effect of hydrogen dilution ratio and Substrate roughness on the microstructure of intrinsic microcrystaline. Advanced Materials Research. 2014, [21] 朱宇峰, 石峰, 刘术林, 张妮, 聂晶, 张太民, 刘晓健, 钱芸生. 防离子反馈MCP噪声因子测试与分析. 红外与激光工程[J]. 2013, 42(2): 499-502, http://lib.cqvip.com/Qikan/Article/Detail?id=45168994.
[22] SHI Feng, FU Shencheng, LI Ye, DUANMU Qingduo, TIAN Jingquan. Monte-Carlo Simulations on the Noise Characteristics of the Ion Barrier Film of Microchannel Plate. 电子学报:英文版[J]. 2012, 21(4): 756-758, http://lib.cqvip.com/Qikan/Article/Detail?id=44222222.
[23] 刘术林. 降低微通道板输入面电极反射率研究. 应用光学. 2011, [24] Shulin Liu. Experiment study on compatibility between high Performance Micro-. SPIE. 2011, [25] 刘术林, 邓广绪, 严诚, 孙建宁, 张彦云, 杨宝荣, 朱庆. MCP增益与首次碰撞时电子能量关系的试验研究. 红外技术[J]. 2011, 33(6): 354-356, http://lib.cqvip.com/Qikan/Article/Detail?id=38270755.

科研活动

   
科研项目
(1) MCP组件噪声因子研究,主持,研究所(学校)级,2012-03--2013-12
(2) 光电倍增管及微通道板性能测试平台,主持,院级级,2012-03--2015-03
(3) 新型微通道板光电倍增管研制,参与,国家级,2011-02--2015-02
(4) BES实验物理研究,参与,国家级,1998-06--2013-06
参与会议
(1) 降低第三代微光像增强器等效背景照度的工艺技术途径,2011年光学年会,2011-09,刘术林,石峰,朱宇峰,刘照路,贺英萍,李周奎
(2) Experiment study on compatibility between high Performance Micro-,第3届国际光电回忆,2011-04,LIU Shulin et al