基本信息
李思坤  男  硕导  中国科学院上海光学精密机械研究所
电子邮件: lisikun@siom.ac.cn
通信地址: 上海市嘉定区清河路390号
邮政编码: 201800

研究领域

   

招生信息

   
招生专业
080300-光学工程
070207-光学
招生方向
高端光刻机技术,光学检测技术

教育背景

2006-09--2011-07   四川大学   工学博士学位
2002-09--2006-07   山东理工大学   理学学士学位
学历
   
学位
   

工作经历

   
工作简历
2013-07~现在, 中科院上海光学精密机械研究所, 副研究员
2011-07~2013-07,中科院上海光学精密机械研究所, 助理研究员
社会兼职
2015-03-01-今,国家自然科学基金委项目通信评议人,

教授课程

   

专利与奖励

   
奖励信息
   
专利成果
( 1 ) 一种光刻机光源的优化方法 , 发明, 2014, 第 3 作者, 专利号: 201410422502.3
( 2 ) 光刻机投影物镜波像差检测标记和检测方法, 发明, 2014, 第 2 作者, 专利号: 201410088185.6
( 3 ) 光刻投影物镜波像差和成像最佳焦面的检测方法, 发明, 2014, 第 1 作者, 专利号: 201410002627.0
( 4 ) 并行计算光学条纹图相位提取方法, 发明, 2013, 第 2 作者, 专利号: 201310545345.0
( 5 ) 极紫外光刻无缺陷掩模衍射谱快速严格仿真方法, 发明, 2013, 第 2 作者, 专利号: 201310534000.5
( 6 ) 一种光束准直性检测方法 , 发明, 2014, 第 1 作者, 专利号: 201410655245.8
( 7 ) 极紫外光刻含缺陷掩模衍射谱的快速严格仿真方法, 发明, 2014, 第 2 作者, 专利号: 201410487246.6
( 8 ) 基于GPU并行计算小波变换的光学条纹图相位提取方法 , 发明, 2014, 第 2 作者, 专利号: 201410229216.5
( 9 ) 光刻机光源与掩模的联合优化方法 , 发明, 2014, 第 2 作者, 专利号: 201410160451.1
( 10 ) 光刻机照明光源的描述方法, 发明, 2014, 第 3 作者, 专利号: 201410160574.5
( 11 ) 光刻物镜奇像差原位检测方法 , 发明, 2014, 第 3 作者, 专利号: 201410036241.1
( 12 ) 基于相位环空间像主成分分析的投影物镜波像差检测方法, 发明, 2013, 第 3 作者, 专利号: 201310139424.1
( 13 ) 极紫外光刻厚掩模缺陷的快速仿真方法, 发明, 2013, 第 2 作者, 专利号: 201310102557.1
( 14 ) 三维信息光学加密系统和方法, 发明, 2013, 第 1 作者, 专利号: 201310021379.X

出版信息

   
发表论文
(1) Radial period extraction method employing frequency measurement for quantitative collimation testing, Optics Communications, 2016, 第 1 作者
(2) Wavefront aberration measurement method for a hyper-NA lithographic projection lens based on principal component analysis of an aerial image, Applied Optics, 2016, 第 3 作者
(3) General analytical expressions for the impact of polarization aberration on lithographic imaging under linearly polarized illumination, Journal of the Optical Society of America A, 2016, 第 3 作者
(4) Source optimization using particle swarm optimization algorithm in photolithography, Proc. SPIE. 9426, Optical Microlithography XXVIII, 2015, 第 2 作者
(5) Analytical analysis for impact of polarization aberration of projection lens on lithographic imaging quality, Proc. SPIE. 9426, Optical Microlithography XXVIII, 2015, 第 2 作者
(6) A defocus measurement method for an in situ aberration measurement method using a phase-shift ring mask, Proc. SPIE. 9052, Optical Microlithography XXVII, 2014, 第 1 作者
(7) Aberration measurement technique based on an analytical linear model of a through-focus aerial image, Optics Express, 2014, 第 3 作者
(8) Aberration measurement based on principal component analysis of aerial images of optimized marks, Optics Communications, 2014, 第 3 作者
(9) In situ aberration measurement method using a phase-shift ring mask , J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS, 2014, 第 1 作者
(10) Efficient source mask optimization using multipole source representation , J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS, 2014, 第 2 作者
(11) Fast model for mask spectrum simulation and analysis of mask shadowing effects in extreme ultraviolet lithography , J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS, 2014, 第 3 作者
(12) Three-dimensional information security combined fringe projection with double random phase encoding, Optics Communications, 2013, 第 1 作者
(13) Robust pixel-based source and mask optimization for inverse lithography, Optics and Laser Technology, 2013, 第 1 作者
(14) Adaptive denoising method to improve aberration measurement performance, Optics Communications , 2013, 第 3 作者
(15) Defect parameters retrieval based on optical projection images, Proc. SPIE. 8789, Modeling Aspects in Optical Metrology IV, 2013, 第 2 作者
(16) Analytical approach to the impact of polarization aberration on lithographic imaging, Optics Letters, 2012, 第 3 作者
(17) Two-dimensional wavelet transform for reliability-guided phase unwrapping in optical fringe pattern analysis, Applied Optics, 2012, 第 1 作者
(18) Hilbert assisted wavelet transform method of optical fringe pattern phase reconstruction for optical profilometry and interferometry, Optik - International Journal for Light and Electron Optics, 2012, 第 1 作者
(19) A new wavelet transform for reliability-guided phase unwrapping of optical fringe patterns, Optics Communications, 2011, 第 1 作者
发表著作
   

科研活动

   
科研项目
( 1 ) 提高小波变换条纹图像处理技术精度和速度的方法, 主持, 国家级, 2013-01--2015-12
( 2 ) 极紫外光刻掩模缺陷计算补偿方法, 参与, 国家级, 2015-01--2018-12
( 3 ) EUVL三维厚掩模衍射成像建模与仿真研究, 主持, 国家级, 2012-01--2015-12
( 4 ) 基于空间像矢量分析的偏振像差在线检测与像质优化方法, 参与, 国家级, 2013-04--2016-12
( 5 ) 光刻机光源与掩模联合优化理论与方法, 主持, 院级, 2015-12--2016-12
( 6 ) 光刻过程中的透镜热效应仿真理论与方法, 主持, 院级, 2015-12--2016-12
参与会议
(1)Optimal shift of pattern shifting for mitigation of mask defects in extreme ultraviolet lithography   Sikun Li, Xiangzhao Wang, Xiaolei Liu, et al   2015-06-22
(2)Source Optimization using Particle Swarm Optimization Algorithm in Photolithography   Lei Wang, Sikun Li, Xiangzhao Wang, Guanyong Yan, Chaoxing Yang    2015-02-22
(3)A defocus measurement method for an in situ aberration measurement method using a phase-shift ring mask   Sikun Li, Xiangzhao Wang , JishuoYang, Feng Tang, Guanyong Yan, Andreas Erdmann   2014-02-23
(4)Source representation for SMO using genetic algorithm   Xiangzhao Wang, Sikun Li, C. Yang, G. Yan   2013-09-26
(5)Research on in situ aberration measurement of lithographic projection lenses   Xiangzhao Wang, Sikun Li, L. Duan, J. Yang, and G. Yan   2012-09-20

合作情况

   
项目协作单位
   

指导学生

现指导学生

茅言杰  硕士研究生  070207-光学  

成维  硕士研究生  080300-光学工程